據(jù)南京發(fā)布近日消息,國(guó)家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(南京)歷時(shí)4年自主研發(fā),成功攻關(guān)溝槽型碳化硅MOSFET芯片制造關(guān)鍵技術(shù),打破平面型碳化硅MOSFET芯片性能“天花板”。據(jù)悉這是我國(guó)在這一領(lǐng)域的首次突破。
source:江寧發(fā)布
公開(kāi)資料顯示,碳化硅是第三代半導(dǎo)體材料的主要代...  [詳內(nèi)文]
國(guó)內(nèi)溝槽型碳化硅MOSFET芯片制造關(guān)鍵技術(shù)有新突破 |
作者
huang, Mia
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發(fā)布日期:
2024 年 09 月 02 日 17:21
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關(guān)鍵字:
碳化硅
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